镀膜配套设备

真空系统组件是作为典型真空系统的组成部分的组件。它们包括用于将样品从大气转移到真空室,用于容易地进入真空室进入门,用于多室(集群工具)应用的基板分配设备和基板加热部件。

0-600℃有机热蒸发束源炉
我们的PID 温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现精确的沉积速率控制,并确保高质量的,均匀的膜。◆ 使用PID 控制器进行温度控制,控制在±1℃◆ 自动调节模式◆ 可调节报警条件◆ 速率控制输..
基片冷却系统
基片冷却系统..
基片升降旋转自动选片系统
采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE(ag亚游提现|开户束外延),溅射和CVD(化学气相沉积)的沉积应用。也可以进行基板退火,脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的..
基片掩膜自动配选位系统
采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE(ag亚游提现|开户束外延),溅射和CVD(化学气相沉积)的沉积应用。也可以进行基板退火,脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的..
0-200℃热蒸发束源炉
我们的PID 温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现精确的沉积速率控制,并确保高质量的,均匀的膜。◆ 使用PID 控制器进行温度控制,控制在±1℃◆ 自动调节模式◆ 可调节报警条件◆ 速率控制输..
2英寸高真空磁控溅射靶
型号TSS-2描述采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布磁体外露,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命标准的HN型接头,可与DC和RF电源相..
3英寸高真空磁控溅射靶
适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却,夹紧式目标设计,集成阳极屏蔽组件,可以自调高低。适用于中低功率,研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸,可以使用任何材料,具有卓越的目标利用..
真空烘烤灯/除气灯
技术参数: 1 双加热器设计; 2 功率:1200 W; 3 安装法兰:CF35; 4 给真空腔体快速除气,提高真空度; 5 烘烤时间比烘烤炉和加热带短;..
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