电阻蒸发镀膜机

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。蒸发镀膜机一般主要用于蒸发CdPbAgAlCuCrAuNi等材料

在高真空下,采用电阻式蒸发原理,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。


Mop300-O手动高真空有机蒸发镀膜机
技术参数:1 本底真空:10-7?Torr;2 单基片设计,尺寸可定制;3 基片可旋转并加热:300℃/500℃/800℃;4 溅射:1-3支磁控溅射靶枪,可共溅射;5 电子束蒸发:4-6坩..
Mop300-R 高真空电阻热蒸发镀膜机
技术参数: 1 本底真空:10-7 Torr; 2 单基片设计,尺寸可定制; 3 基片可旋转并加热:300℃/500℃/800℃; 4 溅射:1-3支磁控溅射靶枪,可共溅射; ..
Mop400-O高真空有机蒸发镀膜机
手动系统适用于本科生教学,研究生科研训练,也可以应用于科研工作。该款设备适用于磁控溅射,也可以装配电子束蒸发,热蒸发源等,用户可根据需求来选择配备。..
Mop400-R 高真空电阻热蒸发镀膜机
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实..
ATTO3-O高真空玻璃钟罩有机蒸发镀膜机
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO3-R 高真空玻璃钟罩阻热蒸发镀膜机
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO3-SO不锈钢高真空有机蒸发镀膜
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO3-SR不锈钢钟罩电阻蒸发镀膜机
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO3-OG 高真空有机热蒸发镀膜机&手套箱
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO3-RG 高真空电阻热蒸发镀膜机&手套箱
ATTO3是经过验证的,坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作,具有广泛的沉积仪器选配,包括:射频和直流溅射源,低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用,如 石英晶体监测,高真..
ATTO10-O高真空有机蒸发镀膜机
功能特点箱体304L 不锈钢室:φ400mm×H450mm该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发(最多4 个独立金属蒸发舟)磁控溅射源(最多4 个 2",3" 源..
ATTO10-R 高真空电阻热蒸发镀膜机
功能特点箱体304L 不锈钢室: φ400mm ×H450mm?该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发(最多4 个独立金属蒸发舟)磁控溅射源(最多4 个..
ATTO10-OG 高真空有机电阻热蒸发镀膜机配手套箱
功能特点:设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜,性能稳定,尤其温控有机蒸发源不仅角度可调,均匀性好,同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂;样品台可升降调整源-基..
ATTO10-RG 高真空电阻热蒸发镀膜机配手套箱
功能特点:设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜,性能稳定,尤其温控有机蒸发源不仅角度可调,均匀性好,同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂;样品台可升降调整源-基..
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